No/VOL: 08/2017 Page no. 106
Authors: Krystian Król , Mariusz Sochacki , Norbert Kwietniewski , Sylwia Gieraltowska , Łukasz Wachnicki :
Title: Zastosowanie dielektryków high-k w przyrządach mocy wytwarzanych w technologii węglika krzemu
Abstract: W artykule omówiono zalety zastosowania warstw dielektrycznych o wysokim współczynniku przenikalności elektrycznej osadzanych techniką ALD (ang. Atomic Layer Deposition) i praktyczne aspekty ich wykorzystania w przyrządach mocy typu MOSFET wytwarzanych w technologii węglika krzemu (SiC).
Key words: high-k, węglik krzemu, SiC, MOSFET, przyrządy mocy