No/VOL: 06/2012 Page no. 163
Authors: Anna Białostocka , Wojciech Walendziuk :
Title: Ciągły pomiar potencjału podczas procesu elektrochemicznego osadzania miedzi
Abstract: W artykule przedstawiona zostanie przydatność komputerowego wspomagania modelowania poprzez przeprowadzanie zdalnych pomiarów w technologiach elektrochemicznych. Modelowanie powłok elektrolitycznych wymaga rozwiązania problemów związanych między innymi z rozkładem prądu w elektrolicie, kształtem elektrod i składem elektrochemicznym środowiska, w którym zachodzi proces. Zastosowaną metodologię wykorzystuje się do analizy potencjału i jego późniejszego wpływu na strukturę osadzonej powłoki i jej topologię. Klasyfikacja własności tej metody umożliwi jej ocenę pod względem elastyczności i przydatności w procesie galwanizacji oraz możliwość późniejszego zastosowania w praktyce.
Key words: elektrokrystalizacja, procesy elektrodowe, powierzchniowa warstwa miedzi, elektrody dodatkowe.