No/VOL: 07/2013 Page no. 324
Authors: Jan Ziaja , Mariusz Ozimek :
Title: Spektroskopia emisyjna plazmy zasilanej impulsowo w trakcie magnetronowego rozpylania stopu Zn-Bi
Abstract: Za pomocą spektroskopii optycznej określono korelacje pomiędzy parametrami procesu rozpylania - moc wyładowania, odległość target-podłoże, ciśnienie gazu, a składem chemicznym plazmy magnetronowego wyładowania jarzeniowego. W badaniach zastosowano stop 0,90Zn-0,10Bi. Target rozpylano w atmosferze argonu (Ar), tlenu (O2) oraz mieszaninie obu tych gazów. Widma emisyjne rejestrowano w zakresie długości fal od 200-800 nm.
Key words: rozpylanie magnetronowe, spektroskopia optyczna, linie emisyjne, plazma zasilana impulsowo.