Numer: 10/2018 Str. 216
Autorzy: Tomasz Czapka , Angelika Woś , Marcin Palewicz :
Tytuł: Wpływ niskotemperaturowej plazmy na właściwości cienkich folii stosowanych do zabezpieczania ogniw fotowoltaicznych
Streszczenie: W artykule opisano wykorzystanie plazmy niskotemperaturowej do traktowania powierzchni materiału przeznaczonego do procesu enkapsulacji ogniw fotowoltaicznych w celu zabezpieczenia ich przed degradacją podczas pracy. W pracy opisano wpływ oddziaływania plazmy na właściwości optyczne i powierzchniowe materiału polimerowego. Wyniki pomiarów optycznych wskazują, że modyfikacja plazmowa materiałów poprawia ich transmitancję, co jest efektem pozytywnym w przypadku stosowania ich w technologii ogniw słonecznych.
Słowa kluczowe: ogniwo fotowoltaiczne, plazma niskotemperaturowa, wyładowania z barierą dielektryczną.